刻蝕工藝設(shè)備

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￥300萬(wàn)-1000萬(wàn)

產(chǎn)品規(guī)格：反應(yīng)離子刻蝕、電感耦合等離子體RIE、離子束刻蝕

公司所在地：重慶

產(chǎn)品庫(kù)存：現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū)：全國(guó)

其他說明：

刻蝕工藝包含以下設(shè)備：反應(yīng)離子刻蝕：負(fù)電偏壓將這些物質(zhì)加速到基板表面以進(jìn)行蝕刻電感耦合等離子體：氣體物質(zhì)在電感耦合等離子體源的等離子放電區(qū)域內(nèi)被激活離子束刻蝕：利用離子源從基片表面蝕刻材料

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刻蝕工藝包含以下設(shè)備：反應(yīng)離子刻蝕：負(fù)電偏壓將這些物質(zhì)加速到基板表面以進(jìn)行蝕刻電感耦合等離子體：氣體物質(zhì)在電感耦合等離子體源的等離子放電區(qū)域內(nèi)被激活離子束刻蝕：利用離子源從基片表面蝕刻材料收起