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點(diǎn)擊登錄查看2025年1至12月政府采購(gòu)意向-離子刻蝕顯影系統(tǒng) 詳細(xì)情況
| 離子刻蝕顯影系統(tǒng) | |
| 項(xiàng)目所在采購(gòu)意向： | 點(diǎn)擊登錄查看2025年1至12月政府采購(gòu)意向 |
| 采購(gòu)單位： | 點(diǎn)擊登錄查看 |
| 采購(gòu)項(xiàng)目名稱： | 離子刻蝕顯影系統(tǒng) |
| 預(yù)算金額： | 250.000000萬(wàn)元(人民幣) |
| 采購(gòu)品目： | A****其他電工、電子生產(chǎn)設(shè)備 |
| 采購(gòu)需求概況 ： | 采購(gòu)離子刻蝕顯影系統(tǒng)1套，用于真空互聯(lián)的前提下探索新的納米加工技術(shù)開發(fā)，實(shí)現(xiàn)真空互聯(lián)干膜光刻膠顯影和無(wú)掩膜圖形化，避免水氧接觸，完成真空器件圖形化。以緩沖腔與超高真空管道互聯(lián)，緩沖腔真空度≤1×10-7Pa；反應(yīng)室真空度≤5×10-5Pa；至少5路氣體，H2、O2、Ar、N2等氣體，同時(shí)預(yù)留5路供切換其他氣體，均以MFC控制流量；可實(shí)現(xiàn)2英寸樣品刻蝕深度100 nm，不均勻性≤ ±5% |
| 預(yù)計(jì)采購(gòu)時(shí)間： | 2025-02 |
| 備注： | |
本次公開的采購(gòu)意向是本單位政府采購(gòu)工作的初步安排，具體采購(gòu)項(xiàng)目情況以相關(guān)采購(gòu)公告和采購(gòu)文件為準(zhǔn)。
