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近期，點擊登錄查看連續(xù)發(fā)布多項儀器設(shè)備采購意向，預(yù)算金額達1.287億元。涉及儀器設(shè)備包括光學(xué)顯微鏡、原子層沉積鍍膜機、通風(fēng)櫥、掩膜光刻機、原子力顯微鏡等。預(yù)計采購時間2025年1月和2月。
采購意向只是政府采購的初步安排，具體采購情況以點擊登錄查看發(fā)布的采購公告和采購文件為準(zhǔn)，有意向的企業(yè)可持續(xù)關(guān)注該校發(fā)布的招標(biāo)信息。
點擊登錄查看近期儀器采購意向匯總
| 采購項目 | 采購需求概況 | 預(yù)算金額 | 預(yù)計 |
| 光學(xué)顯微鏡（3臺） | 光學(xué)顯微鏡（3臺） | 120 | 2025年2月 |
| 原子層沉積鍍膜機 | 原子層沉積鍍膜機 | 550 | 2025年2月 |
| 掩膜光刻機 | 掩膜光刻機 | 450 | 2025年2月 |
| 原子層刻蝕機 | 原子層刻蝕機 | 580 | 2025年2月 |
| 磁控濺射沉積鍍膜機 | 磁控濺射沉積鍍膜機 | 450 | 2025年2月 |
| 原子力顯微鏡 | 原子力顯微鏡 | 350 | 2025年2月 |
| 等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜機 | 等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜機 | 380 | 2025年2月 |
| 快速退火系統(tǒng) | 快速退火系統(tǒng) | 180 | 2025年2月 |
| HF氣體刻蝕機 | HF氣體刻蝕機 | 550 | 2025年2月 |
| 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐 | 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐1套 | 1000 | 2025年1月 |
| 空間角分辨拓?fù)鋯喂庾訙y試系統(tǒng) | 空間角分辨拓?fù)鋯喂庾訙y試系統(tǒng)1套 | 800 | 2025年2月 |
| 量子自旋多層膜磁控濺射真空互聯(lián)系統(tǒng) | 量子自旋多層膜磁控濺射真空互聯(lián)系統(tǒng)1套 | 500 | 2025年2月 |
| 60T非破壞脈沖磁場綜合物性測量系統(tǒng) | 61T非破壞脈沖磁場綜合物性測量系統(tǒng)1套 | 700 | 2025年2月 |
| 片上熱流場設(shè)計與粒子輸運成像系統(tǒng) | 片上熱流場設(shè)計與粒子輸運成像系統(tǒng)1套 | 600 | 2025年2月 |
| 掃描電子顯微鏡（配有電子束曝光 模塊） | 掃描電子顯微鏡（配有電子束曝光 模塊） | 680 | 2025年2月 |
| 特殊氣體系統(tǒng) | 特殊氣體系統(tǒng) | 650 | 2025年2月 |
| 電子束蒸發(fā)沉積鍍膜機 | 電子束蒸發(fā)沉積鍍膜機 | 550 | 2025年2月 |
| 光刻輔助系統(tǒng) | 包含通風(fēng)櫥，勻膠機，加熱臺，烘箱等光刻輔助設(shè)備 | 250 | 2025年2月 |
| 反應(yīng)離子刻蝕機 | 反應(yīng)離子刻蝕機 | 350 | 2025年2月 |
| 封裝配套系統(tǒng) | 封裝配套系統(tǒng) | 200 | 2025年2月 |
| 熱蒸發(fā)沉積鍍膜機 | 熱蒸發(fā)沉積鍍膜機 | 280 | 2025年2月 |
| 無掩膜光刻機 | 無掩膜光刻機 | 700 | 2025年2月 |
| 環(huán)境模擬實驗裝置艙體及配套設(shè)施 | 環(huán)境模擬實驗裝置艙體及配套設(shè)施 | 2000 | 2025年1月 |
